A aplicação de vidros planos com performance energética vem ganhando espaço nos mercados de forma crescente. Esta aplicação não está limitada apenas em seu seguimento principal, que é o seguimento da construção civil, mas vem ganhando espaço em seguimentos como a indústria de energia, automotiva, moveleira, entre outras, o que resulta em um aumento significativo no mercado mundial. Tais vidros com eficiência energética são resultados de uma lâmina de vidro tipo soda-cálcio revestida por filmes finos em escala nanométrica. A configuração dos filmes finos, bem como a espessura de cada filme caracterizam o produto final, ou seja, afetam diretamente nas propriedades ópticas e performance energética do produto. Estes filmes finos são constituídos de ligas metálicas, metais puros e materiais cerâmicos, como óxidos e nitretos. A tecnologia de fabricação envolve deposição de filmes finos sobre substrato de vidro em um ambiente de alto vácuo, cuja deposição é dinâmica, ou seja, ocorre com o substrato de vidro em movimento. Um dos maiores desafios da indústria é controlar esta deposição de filmes finos sobre o substrato de vidro, ou seja, controlar a qualidade e a uniformidade no processo de deposição, especialmente quando as variáveis de deposição precisam ser alteradas. Assim a caracterização dos filmes finos por meio das técnicas existentes que permitam avaliar a interferência no processo de deposição é muito importante, a fim de garantir a uniformidade e propriedades ópticas destes filmes finos. O nitreto de silício é um dos materiais mais aplicados em vidros refletivos, bem como em outros seguimentos da indústria de alta tecnologia para a fabricação, por exemplo, de circuitos integrados e microchips. Nos vidros refletivos o nitreto de silício tem por objetivo ser uma camada que crie interface de adesão entre outras camadas de materiais distintos. Nesta dissertação, avaliaremos as propriedades deste filme depositado por pulverização catódica por magnetron reativo (reactive magnetron sputtering) em um vidro produzido industrialmente, mediante a variação de parâmetros de produção como potência aplicada e a velocidade de passagem do substrato sob os catodos. As amostras serão caracterizadas por espectrofotometria, perfilometria e elipsometria a fim de se obter as propriedades ópticas (índice de refração, coeficiente de extinção, transmitância e reflectância) e espessuras do filme. Verificamos que após a deposição com os novos parâmetros, as espessuras do filme e as propriedades ópticas mantiveram valores adequados para a produção industrial